西部片組曲
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【摘要2021.6.9.蘋果】美國白宮國安會印太事務協調官坎貝爾(Kurt Campbell)周二（6/8）表示，由於印度太平洋地區與中國的戰略競爭日益激烈，美國將與日本、紐西蘭、澳洲及其他盟友合作，協助太平洋島國。
今年2月，由於對太平洋島國（Pacific
Island Forum）論壇新任秘書長選舉結果感到不滿，帛琉、密克羅尼西亞聯邦、吉里巴斯、馬紹爾群島和諾魯發表聯合聲明，宣布退出這個該區域的主要政治組織。坎貝爾表示，在經歷此次「分裂」之後，美國希望與其他國家合作，重新召集該論壇，以實現未來的雙邊和機構參與。
坎貝爾在由華府智庫新美國安全中心 （Center
for a New American Security）主辦的線上活動中說，「這些島國是我們擁有巨大的歷史道德和戰略價值的國家，而我們有時會忘記這一點。」
他續指，「而且，越來越明顯的，在價值觀、他們在聯合國的角色、他們的為聲討站、氣候變遷、他們在軍事上的潛在作用、健康的漁業資源等方面，將再次成為競爭的舞台。因此，我們在接下的時間內將與澳洲、紐西蘭、日本和其他盟友密切合作的一件事，就是與太平洋島國開會討論具有共同目標的領域。」
坎貝爾表示，目標是在如漁業、海岸巡防活動以及提供支援和協助，包括疫苗在內的領域取得進展。坎貝爾指出，該地區面臨應對貧困、疾病和氣候變化等艱鉅挑戰，由於人口稀少，應對這些挑戰非常困難。他說，「但對美國來說，這也是我們必須加強優勢的另一個領域。」
近年來，人口稀少的南太平洋島國成為美中及其盟國影響力的戰場。大多數太平洋島國政府重度依賴國際旅遊業，該行業去年受到新冠肺炎疫情全球大流行的影響，嚴重衝擊多數島國的經濟。
美日聯合聲明後 共機擾台驟減【摘要2021.6.9.聯合報】日本經濟新聞八日報導，自從美國總統拜登和日本首相菅義偉在四月十六日峰會期間強調台海和平穩定重要性以來，中國大陸軍機在台灣防空識別區（ADIZ）的軍事活動大幅減少。
今年一月一日到四月十六日，大陸擾台軍機以「殲十六」與「殲十」為中心，達257架次，平均一天有3.4架次軍機擾台；單日大量出動10架軍機以上的大規模擾台有9天，其中六天集中在美日峰會發表聯合聲明前三周內。
而自從四月十六日美日領袖峰會後，解放軍平均每次派的軍機降至1.9架。過去十四天，解放軍派軍機前往台灣防空識別區的天數只有七天，有一天派出兩架，其餘六天都只派出一架。
華為佈局光刻機技術 解決晶片卡脖子還有多遠？【摘要2021.6.9.中時】日前華為旗下哈勃投資公司揭露了投資科益虹源光電技術公司的訊息，讓外界認定華為已著手布局生產光刻機領域相關技術，科技產業界也議論紛紛。
不過，半導體產業技術十分複雜，華為涉入此一領域多半也只是配合政府政策支持一下技術自主的決心，雖然此舉在大陸極為振奮人心，但要在數年之內趕上集全球數十國各種領域尖端技術的高科技設備，顯然有極高難度。
科益虹源，是中科院微電子所旗下的公司，製造高能雷射儀器，而高能雷射技術是光刻機主要技術之一。科益虹源也是大陸國產光刻機廠商上海微電子的光源系統供應商，因此媒體盛傳這是華為著手布局光刻機的重要步驟。
有關華為布局光刻機與高端半導體產業的傳聞，從去年被美國進行第2輪制裁卡住華為晶片貨源後就流傳開來，大約9月各種華為大量招聘光刻機人才的資訊在業界引起震動。華為招聘人才又投資相關產業，涉入晶片產業的動作愈來愈多，但這是配合政策進行表態？還是真的要大規模投入戰場？
恐怕還有不少疑問。打造光刻機並非易事，其中涉及的關鍵技術與系統整合極多，每一樣都是現今全球的頂尖技術與專利，不是幾家廠商或幾十家廠商就能搞定。光刻機的元件涉及數十個不同類別、來自全球十幾個國家的頂尖供應商，如果要建立一支數十家供應商的隊伍來追趕對手，經過數年努力可能會有部份廠商的技術能趕上外國供應商，但要全部廠商都趕上，可能性微乎其微。
畢竟這些供應商都是在全球相關產業界打滾數十年，每一家都是激烈競爭中脫穎而出的強勁對手，要在短時間內全數趕超，只能說是不可能的任務。
大陸國產光刻機龍頭上海微電子(SMEE)從開發光刻機至今也有20年歷史，但是目前量產的90nm光刻機，也僅僅是荷蘭ASML公司十幾年前的水準。即便如此，這並非最先進設備的供應商也絕大多數都來自國外，該公司總經理賀榮明曾表示，「SMEE最好的光刻機（90nm解析度），包含13個分系統、3萬個機械零件、200多個感測器，每一個都要穩定。就像歐洲冠軍杯決賽，任何一個人稍為失常就要輸球。」
而ASML的EUV光刻機則擁有超過10萬個零件，更為複雜，零件幾乎都是訂製，幾乎都是採用世界上最先進技術與製作工藝。
而以目前大陸被卡脖子的EUV光刻機來說，其發展從1997年就已開始，當時有來自全球各國的數百位頂尖學家，整合了幾個國家政府與一流企業的資源組成EUV
LLC聯盟，投入至少2億美元，用6年時間做出數百篇研究論文，才完成科學理論與技術驗證，確認EUV光刻技術的可行性。而這還只是理論與技術論證，進到實務還有全球數萬供應商的各自的生產能力與技術要求。
華為當然是個技術能力很強的企業，但是若想在10~20年內，以一國之力做到集全球頂尖人才之力且花20年到30年才做出來的EUV光刻機，希望確實十分渺茫。
產業界人士進一步分析華為說，這家優秀的企業有足夠的雄心與衝勁，也能有效地運用技術與經營人才，但也非萬能。以其著名手機上使用的麒麟晶片與照片技術來看，確實是頂尖的產品，但麒麟晶片的開發是建立在ARM公版架構上，照相技術是建立在Sony開發的感測器上，亦即華為很多技術的發展都是站在即有技術成果上進行。
但是，最先進的EUV光刻機與先前的DUV光刻機差了一整代，連理論都不一樣，無法依照先前的技術路徑來實現。華為過去也沒有相關技術基礎，都要自己組建技術隊伍重頭來過，可以想見難度有多高。
有一篇網路有關光刻機的文章廣為流傳，撰文者自稱是在ASML工作的華裔工程師，這篇文章為半導體的晶圓代工業做了個比喻說，如果台積電是擁有10艘10萬噸級核動力航母的美國海軍，中國大陸的晶片製造商大概就是還沒把瓦格良號拖進港的中國海軍。至於中國何時會造出10萬噸核動力航母，這個當然極有可能，但是什麼時候能造出來，就需要各種條件都具備了才行。其中需要產業政策、資金、人才、技術發展時機與適合的國際政經環境，「而有這個錢還要花這麼大力氣在中國重新建立起一家與台積電一樣的公司，還不如用這個錢直接買下台積電比較容易些。」
該文章還說，如果歐洲一夜之間蒸發了，美國想要重新造出性能相似的光刻機來，至少還需要5年。這種光刻機不只是中國造不出來，其中很多元件目前就連美國也還造不出來。所以中國要自己造出最尖端的EUV光刻機，這不是中國單挑美國，而是中國單挑全球十幾個技術先進的國家。把這樣沉重的任務都寄託在華為身上，離現實還是有很大的距離。
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